Das Vorhaben erforscht Lösungsansätze und Strategien für einen EUV Photomaskenprozesses mit Blick auf die Anforderungen für die nächsten Technologieknoten. Dies beinhaltet die Erstellung der konzeptionellen Herangehensweisen, fortführende Entwicklungsarbeiten sowie Untersuchungen von neuartigen Lösungsansätzen zur Herstellung von EUV Masken. Hauptaugenmerk liegt dabei auf den Maskenperformanzparametern wie minimale Strukturauflösung sowie Reduzierung der Variationen der Strukturbreiten und die Platziergenauigkeit, um einen fortschrittlichen Lithographie Prozess zur Herstellung von leistungsstarken Mikrochips zu ermöglichen.