Die Carl Zeiss SMT GmbH (Zeiss) wird in diesem Teilvorhaben neuartige Technologien entwickeln, mit denen erstmals Einfachbelichtungen im Lithographie-Prozess von kritischen Lagen durchgeführt werden können, die den Anforderungen des 2nm Technologieknotens entsprechen. Das Vorhaben adressiert am Standort Jena in Thüringen den Schwerpunkt Messtechnik für Photomasken. Hier sollen Lösungen entwickelt und in einem Demonstrator nachgewiesen werden, die u.a. eine gegenüber dem Stand der Technik zweifach verbesserte Messung von Positionsmarken auf der Photomaske erlauben, was für die Einhaltung der Overlay-Vorgaben des 2nm Knotens erforderlich ist.