Die Themen in diesem Projektantrag sind Teil des europäischen Gesamtprojektes TAPES3 (Technology Advances for Pilot line of Enhanced Semiconductors for 3 nm), das aufgrund seiner Gesamtstruktur die Infrastruktur und die notwendigen Technologien bereitstellt bzw. in ihm entwickelt, um die EUV Technologie als nächste Wafer Belichtungstechnologie zu ermöglichen. Die in diesem Zusammenhang relevanten Themengebiete der EUV Photomaskenreinigung wurde innerhalb des TAPES3 Konsortiums der SÜSS MicroTec Photomask Equipment GmbH & Co. KG (SMT PE) übertragen. Innerhalb des Projektes entwickelt SMT PE Reinigungsmethoden für neuartige Absorberschichtsysteme von EUV Photomasken. Auch die Integration von neuen Reinigungsmethoden in eine Maskenreinigungsanlage und die Entwicklung von entsprechenden Reinigungsprozessen sind Bestandteil dieses Projekts. Insgesamt werden folgende Teilziele in diesem Projekt verfolgt: 1. Identifikation von Spezifikationswerten und Definition von Reinigungsprozessen für neuartige Absorbersysteme von EUV Photomasken. Definition von Maßnahmen zur Modifizierung der MaskTrackPro EUVL Reinigungsanlage für neuartige Reinigungsprozesse. 2. Integration und prozesstechnische Validierung von neuartigen Reinigungsprozessen in der MaskTrackPro EUVL Reinigungsanlage für die Reinigung von neuartigen Absorbersystemen von EUV Photomasken