Das AMTC wird innerhalb des SeNaTe Projektes Strategien und Prozesse zur Defekt-Reduzierung für Masken der 7nm Technologie untersuchen, entwickeln und validieren. Fokus liegt dabei aus heutiger Sicht auf der EUV Masken-technologie. Zusätzlich werden Mess-Strategien und -prozesse auf der Photomaske für die holistische Lithographie für den 7nm Technologieknoten entwickelt. Das AMTC wird Prozesse zur Mitigation von Defekten auf EUV Masken untersuchen und entwickeln. Dazu zählt das Verschieben der Strukturen auf der Maske, so dass Maskenblankdefekte auf dem Wafer nicht abgebildet werden, das Korrigieren bzw. Reparieren von Absorber- als auch Multilayerdefekten der Maske. Weiterhin wird der Einfluss von Defekten, Kontamination auf Vorder- und Rückseite der Maske untersucht und verbesserte Prozesse hinsichtlich Reinigung und Masken-Handhabung entwickelt. Insbesondere soll die Entwicklung eines Schutzfilms (Pellicle) für EUV Masken aus Sicht eines Maskenherstellers mit den Partnern durchgeführt werden. Hier untersucht und entwickelt das AMTC die Implementierung der gemeinsam mit den Partnern entwickelten Lösungen in einem fertigungsnahen Umfeld. Im Bereich der Metrologie werden Charakterisierungsprozesse für die Maske entwickelt und für den holistischen Metrologieansatz angepasst.