Im Rahmen des europäischen Verbundprojektes SeNaTe sollen europäische Ausrüster der Halbleiterindustrie in die Lage versetzt werden, Gerätelösungen für die 7nm IC Technologie zu entwickeln. Dieses würde die Fortführung von Moores Gesetz bedeuten, welches momentan den Beginn der 7nm Fertigung bis 2018 erwartet. Das Projekt bestehend aus 42 Kooperationspartnern aus ganz Europa und soll die gesamte Bandbreite der Halbleiterfertigung abdecken. Aufgabe von HAP im Rahmen des Projektes ist es, Lösungsansätze für das Montieren und Demontieren von Pelliclen auf EUV-Photomasken zu suchen, zu analysieren und zu bewerten, um abschließend über ein nachweislich funktionierendes Konzept zu verfügen. Für HAP stellt sich die Aufgabe erstmalig, automatisch EUV-Masken mit einem Pellicle zu versehen und dieses ohne ein Beschädigen der Maske auch demontieren zu können. Dieses Ziel und der Wunsch, die Vorteile der neuartigen Technologie im Anschluss nutzen zu können, bedingt ein stufenweises Vorgehen. Die folgenden Stichpunkte teilen die zu leistende Forschungsarbeit in die dafür notwendigen Arbeitsinhalte: • Analyse und Bewertung bestehender Systeme • Gemeinsames Formulieren von Anforderungen an Pellicles auf EUV-Masken, Definition von Prozessparametern und Zielgrößen (Sauberkeit und Präzision) • Erforschung neuartiger Montagetechnologien, Variantenanalyse und gemeinsame Bewertung (HAP-AMTC-ASYS) • Aufbau von Versuchsständen, Planung von Versuchsreihen und Versuchsdurchführung • Auswertung, Vergleich der ermittelten Ergebnisse mit den gestellten Zielparametern, Auswirkung auf finales Lösungskonzept ableiten • Projektabschluss