Die Themen in diesem Antrag sind Teil des europäischen Gesamtprojektes SeNaTe (Seven Nanometer Technology), das aufgrund seiner Gesamtstruktur die Infrastruktur und die notwendigen Technologien bereitstellt bzw. in ihm entwickeln werden, um die EUV Technologie als nächste Wafer Belichtungstechnologie zu ermöglichen. Die in diesem Zusammenhang relevanten Themengebiete der EUV Maskenreinigung wurde innerhalb des SeNaTe Konsortiums der SÜSS MicroTec Photomask Equipment GmbH&Co.KG (SMT PE) übertragen. SMT PE entwickelt neben den notwendigen Anpassungen von existierenden Modulen einer Maskenreinigungsanlage auch die auf den Modulen laufenden Reinigungsprozesse für die Reinigung von EUV Photomasken mit Pellicle. Insgesamt werden die folgenden Teilziele in diesem Projekt verfolgt: 1. Definition, Umsetzung und prozesstechnische Validierung von Maßnahmen zur Modifizierung der MaskTrackPro EUVL Reinigungsanlage für eine Kompatibilität zu EUV Photomasken mit montiertem Pellicle 2. Identifikation von Spezifikationswerten und Definition von Reinigungsprozessen der Photomasken Rückseite für EUV Photomasken mit montiertem Pellicle und von Reinigungsprozessen von EUV Photomasken nach Demontage eines Pellicle Zur Erreichung der oben genannten Ziele wird das Projekt entsprechend der zwei Zielsetzungen in zwei Arbeitspakete untergliedert. Dabei sollen diese Qualifizierungsarbeiten auf dem SMT PE Anlagen Cluster, bestehend aus dem MaskTrackPro Photomasken Reiniger und dem MaskTrackPro InSync, das bei imec (Leuven, Belgien) aufgebaut ist, erfolgen. Innerhalb eines abgeschlossenen europäischen Förderprojektes EXEPT sind die notwendigen Prozesse und Modul Anpassungen für die Reinigung von EUV Photomasken (ohne Pellicle) umgesetzt und qualifiziert worden. Somit versteht sich das aktuelle Vorhaben als logische technologische Weiterentwicklung.