Die Beteiligung der Fraunhofer Gesellschaft am SeNaTe Projekt soll vor allem die weltweit führende Position deutscher Industrieunternehmen im Bereich von Geräten für die Halbleiterfertigung stärken und ausbauen. Das Fraunhofer Institut IISB wird mit seinen Arbeiten zur Modellierung hochauflösender EUV-Optiken die Firma Zeiss SMT bei der Entwicklung von EUV Projektionsoptiken unterstützen. Hierfür werden neue Modelle entwickelt und eingesetzt, um das komplexe Zusammenspiel von 3D-Maskeneffekten mit optischen Systemparametern der Scanneroptik zu untersuchen und zu optimieren. Die hierzu erforderliche Modellentwicklung umfasst die Implementierung neuer Randbedin-gungen, sowie geeigneter Dekompositionstechniken zur effizienten Simulation der Abbildung Design-relevanter Maskenlayouts. Der Lithografiesimulator Dr.LiTHO und insbesondere die im Projekt entwickelten Modellerweiterungen werden für umfangreiche Simulationsstudien eingesetzt, welche die Technologieentwicklung beim Projektpartner Zeiss SMT im WP2 unterstützen. Ergänzend zu den Arbeiten in WP2 wird Fraunhofer IISB mit verschiedenen Simulationsaktivitäten zur Bewertung und Optimierung neuer Maskenoptionen beitragen.